高纯电子铝箔在HCl-H2C2O4中的电解腐蚀行为

• 作者: 殷禄华 王建中
• 来源期刊: 新技术新工艺
• 学科: 工学
• 关键词: 低压铝箔 H2C2O4 电解腐蚀
• 年，卷（期）: 2004,（2）
• 所属期刊栏目: 材料与表面处理
• 页码范围: 48-50
• 页数: 3页
• 分类号: TQ15
• 字数: 1436字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1003-5311.2004.02.021

摘要

在HCl-H2C2O4中电解高纯低压电子铝箔,控制合适的电解温度、[Cl-]含量、[Al3+]/[H+]比值及一定的腐蚀电量,可获得较高质量的电解电容器用电极箔.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	殷禄华		6	31	3.0	5.0