Si衬底上La0.8Sr0.2MnO3/SrMnO3双层结构研究

• 作者: 严辉 于敦波 张深根 李彤 杜永胜 王波 许仕龙
• 来源期刊: 功能材料
• 学科: 物理学
• 关键词: LSMO薄膜 SMO缓冲层 择优取向生长 界面扩散
• 年，卷（期）: 2004,（z1）
• 所属期刊栏目: 磁功能材料及其应用
• 页码范围: 620-622,629
• 页数: 4页
• 分类号: O484.1
• 字数: 2406字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1001-9731.2004.z1.166

摘要

利用磁控溅射方法在Si(100)衬底上首先生长SrMnO3(SMO)作为缓冲层,再沉积La0.8Sr0.2MnO3(LSMO)薄膜,得到(110)面择优生长的LSMO/SMO双层结构.利用X射线衍射仪分析了SMO缓冲层的结构特征对LSMO薄膜择优取向生长的影响;利用Rutherford背散射(RBS)分析了LSMO/SMO间的界面情况.结果表明:以SMO作为单一缓冲层时,不仅可以实现LSMO薄膜在Si(100)衬底上的(110)面的择优生长,而且LSMO/SMO的界面扩散现象也不明显.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	严辉	北京工业大学材料学院薄膜材料与技术研究室	178	1225	16.0	29.0
2	王波	北京工业大学材料学院薄膜材料与技术研究室	80	638	11.0	23.0
3	于敦波		11	63	4.0	7.0
4	张深根		6	44	4.0	6.0
5	李彤	北京工业大学材料学院薄膜材料与技术研究室	8	25	3.0	4.0
6	许仕龙	北京工业大学材料学院薄膜材料与技术研究室	3	5	2.0	2.0
7	杜永胜	北京工业大学材料学院薄膜材料与技术研究室	2	3	1.0	1.0