聚四氨基钴酞菁膜修饰电极对甲巯咪唑催化氧化机理的研究

• 作者: 丁春霞 任春生 应敏 张晓敏 欧阳小琨
• 来源期刊: 工业催化
• 学科: 化学
• 关键词: 紫外光谱法 四氨基钴酞菁 甲巯咪唑 电催化氧化机理
• 年，卷（期）: 2004,（9）
• 所属期刊栏目: 分析化学与催化
• 页码范围: 42-46
• 页数: 5页
• 分类号: TQ035|O621.25+4.1|O643.32
• 字数: 4183字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1008-1143.2004.09.012

摘要

采用紫外光谱法和电化学方法对聚四氨基钴酞菁膜(p-CoTAPc)修饰玻碳电极(GCE)和化学修饰电极(CME)催化氧化甲巯咪唑的机理进行了研究.通过设计的一系列实验验证了不同酸度条件下不同的反应机理.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	应敏		30	363	12.0	18.0
5	欧阳小琨	东华理工学院应用化学系	4	63	4.0	4.0
6	丁春霞	东华理工学院应用化学系	3	26	2.0	3.0
7	任春生		4	51	4.0	4.0
9	张晓敏	东华理工学院应用化学系	6	61	5.0	6.0