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铜电解系统大修生产控制要点
铜电解
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铜电解
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文献信息
篇名 用于铜互连技术的前瞻性生产系统--Atotech(安美特)公司的Everplate生产系统
来源期刊 集成电路应用 学科 工学
关键词
年,卷(期) 2004,(9) 所属期刊栏目 生产工艺
研究方向 页码范围 40-41
页数 2页 分类号 TN4
字数 1784字 语种 中文
DOI 10.3969/j.issn.1674-2583.2004.09.012
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相关学者/机构
期刊影响力
集成电路应用
月刊
1674-2583
31-1325/TN
16开
上海宜山路810号
1984
chi
出版文献量(篇)
4823
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15
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