倾斜溅射制备TbFe薄膜的磁力显微镜研究

• 作者: 周宇 张金平 王志红 陈琨
• 来源期刊: 功能材料
• 学科: 物理学
• 关键词: 磁力显微镜 TbFe薄膜 倾斜溅射
• 年，卷（期）: 2004,（z1）
• 所属期刊栏目: 功能材料分析、检测、评价技术
• 页码范围: 3349-3351,3555
• 页数: 4页
• 分类号: O484.43
• 字数: 1777字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1001-9731.2004.z1.940

摘要

磁力显微镜(MFM)作为研究表面磁结构的有力工具广泛地应用于磁性薄膜的研究中.TbFe磁致伸缩薄膜在实际应用中要求易磁化轴平行于膜面,以具有较低的面内饱和场Hs,传统的成膜技术难以实现这一目标,采用倾斜溅射方法制备TbFe薄膜可有效降低面内饱和场Hs.通过测量样品的磁滞回线可以发现,易磁化轴随着溅射角度的增加逐渐偏离样品的法线方向,而取向于平行膜面.本研究工作利用MFM研究了不同溅射角度得到的TbFe薄膜的磁畴结构.发现薄膜的磁畴结构随着溅射角度的增加逐渐由垂直畴转化为水平畴,与磁滞回线测量得到的易轴方向发生偏转的结果相吻合.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	张金平	电子科技大学微电子与固体电子学院纳米技术中心	19	83	5.0	8.0
2	王志红	电子科技大学微电子与固体电子学院纳米技术中心	25	96	6.0	8.0
3	周宇	电子科技大学微电子与固体电子学院纳米技术中心	5	26	3.0	5.0
4	陈琨	电子科技大学微电子与固体电子学院纳米技术中心	3	14	2.0	3.0