一种新的四硫富瓦烯衍生物的合成

• 作者: 单静影 朱玉兰 李锦莲 赵志宇
• 来源期刊: 合成化学
• 关键词: 巴比妥酸 底物 电化学 合成
• 年，卷（期）: 2004,（2）
• 所属期刊栏目: 研究简报
• 页码范围: 177-179
• 页数: 3页
• 分类号: O622.7
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1005-1511.2004.02.020

摘要

经偶联、缩合等反应合成了一种新的用于分子组装的底物2,3-(二硫甲基)-6,7(二硫丁氧基对苯亚甲基巴比妥)四硫富瓦烯,产物用元素分析,IR和1H NMR进行了表征,并初步探讨了其电化学行为.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	赵志宇	佳木斯大学化学与药学院	17	49	4.0	6.0
2	李锦莲	佳木斯大学化学与药学院	61	137	6.0	9.0
3	单静影	佳木斯大学化学与药学院	8	31	3.0	5.0
4	朱玉兰	淮阴师范学院化学系	14	49	5.0	6.0