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摘要:
3C-SiC因其优越的物理和电学性能是制造耐高温、大功率、高频率器件的理想材料.本文报道了采用液相外延法从硅熔体中生长3C-SiC及抑制其相变的研究进展.采用X射线衍射、透射电镜、Raman散射等检测手段对样品进行结构分析,结果表明所制备的样品为3C-SiC单晶体.
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文献信息
篇名 3C-SiC的液相外延生长及其结构的保持与分析
来源期刊 人工晶体学报 学科 物理学
关键词 碳化硅 液相外延
年,卷(期) 2004,(6) 所属期刊栏目
研究方向 页码范围 945-949
页数 5页 分类号 O782
字数 3403字 语种 中文
DOI 10.3969/j.issn.1000-985X.2004.06.015
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 陈治明 西安理工大学电子工程系 83 498 11.0 18.0
2 李留臣 西安理工大学晶体生长设备研究所 25 153 8.0 11.0
3 蒲红斌 西安理工大学电子工程系 33 119 7.0 9.0
4 马剑平 西安理工大学电子工程系 19 114 7.0 10.0
5 封先锋 西安理工大学电子工程系 22 106 7.0 9.0
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研究主题发展历程
节点文献
碳化硅
液相外延
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
人工晶体学报
月刊
1000-985X
11-2637/O7
16开
北京朝阳区红松园1号中材人工晶体研究院,北京733信箱
1972
chi
出版文献量(篇)
7423
总下载数(次)
16
总被引数(次)
38029
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