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摘要:
介绍了CMOS运算放大器电路经电离辐照后,在不同偏置及不同退火温度下,运放整体性能参数、电路内部单管特性及功能单元电路的节点电流、电压的变化规律,分析了引起运放辐照后继续损伤退化的基本原因.结果显示,运放电路辐照后的退火行为与偏置及温度均有较大的依赖关系,而这种关系与辐照感生的氧化物电荷和Si/SiO2界面态密度的增长与退火直接相关.
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文献信息
篇名 CMOS运算放大器的辐照和退火行为
来源期刊 半导体学报 学科 工学
关键词 CMOS运算放大器 电离辐射 退火
年,卷(期) 2004,(6) 所属期刊栏目 研究论文
研究方向 页码范围 731-734
页数 4页 分类号 TN386
字数 3423字 语种 中文
DOI 10.3321/j.issn:0253-4177.2004.06.023
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 余学锋 中国科学院新疆理化技术研究所 22 152 6.0 12.0
2 陆妩 中国科学院新疆理化技术研究所 42 320 11.0 16.0
3 郭旗 中国科学院新疆理化技术研究所 50 338 10.0 16.0
4 任迪远 中国科学院新疆理化技术研究所 59 375 11.0 16.0
5 胡浴红 5 20 3.0 4.0
6 王明刚 5 20 3.0 4.0
7 赵文魁 5 22 3.0 4.0
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节点文献
CMOS运算放大器
电离辐射
退火
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期刊影响力
半导体学报(英文版)
月刊
1674-4926
11-5781/TN
大16开
北京912信箱
2-184
1980
eng
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