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单晶硅片超精密加工表面\亚表面损伤检测技术
单晶硅片超精密加工表面\亚表面损伤检测技术
作者:
张银霞
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
超精密加工
硅片
损伤
检测
摘要:
对超精密加工的硅片的表层完整性的精密控制需要以精、准的检测技术为基础,本文概括性的分析了用于超精密加工硅片的表面\亚表面损伤检测技术,并从破坏性和非破坏性两个角度对检测方法的应用和发展进行了论述.
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文献信息
篇名
单晶硅片超精密加工表面\亚表面损伤检测技术
来源期刊
电子质量
学科
工学
关键词
超精密加工
硅片
损伤
检测
年,卷(期)
2004,(7)
所属期刊栏目
测试
研究方向
页码范围
72-75
页数
4页
分类号
TM23
字数
5309字
语种
中文
DOI
10.3969/j.issn.1003-0107.2004.07.031
五维指标
作者信息
序号
姓名
单位
发文数
被引次数
H指数
G指数
1
张银霞
大连理工大学机械工程学院
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节点文献
超精密加工
硅片
损伤
检测
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
电子质量
主办单位:
中国电子质量管理协会
工业和信息化部电子第五研究所(中国赛宝实验室)
出版周期:
月刊
ISSN:
1003-0107
CN:
44-1038/TN
开本:
大16开
出版地:
广州市五羊新城广兴花园32号一层
邮发代号:
46-39
创刊时间:
1980
语种:
chi
出版文献量(篇)
7058
总下载数(次)
32
总被引数(次)
15176
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