变间距光栅刻线密度测试系统的性能评价

• 作者: 余小江 王琪民 王秋平 胡中文 陈锵 高家法
• 来源期刊: 核技术
• 学科: 工学
• 关键词: 变间距光栅 刻线密度 测量系统
• 年，卷（期）: 2004,（1）
• 所属期刊栏目: 新一代同步辐射技术及应用
• 页码范围: 9-13
• 页数: 5页
• 分类号: TL817+.4|O432.2
• 字数: 3026字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:0253-3219.2004.01.002

摘要

在国家同步辐射实验室二期工程光束线的建设中,建立了一套变间距光栅刻线密度的测试系统.该系统采用衍射测量法测量光栅间距的变化,可以对光栅长度为l00mm的平面和凹面光栅的刻线密度进行测量.样品测量结果表明,该系统的测量精度△N/N＜2×10-4,满足光束线工程的要求,可以作为NSRL进口的变间距光栅的验收工具.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	王秋平	中国科学技术大学国家同步辐射实验室	37	235	8.0	13.0
2	胡中文	中国科学技术大学国家同步辐射实验室	11	143	5.0	11.0
3	陈锵	中国科学技术大学国家同步辐射实验室	4	46	4.0	4.0
4	余小江	中国科学技术大学国家同步辐射实验室	8	54	4.0	7.0
5	高家法	中国科学技术大学国家同步辐射实验室	1	13	1.0	1.0
6	王琪民	中国科学技术大学精密机械与精密仪器系	10	88	6.0	9.0