氧化钨薄膜变色机理研究

• 作者: 周春兰 奎热西 王宝义 秦秀波 苏润 钟俊 钱海杰 马创新 魏龙
• 来源期刊: 核技术
• 学科: 物理学
• 关键词: 三氧化钨 热致变色 电致变色 机理 表面
• 年，卷（期）: 2004,（12）
• 所属期刊栏目: 新一代同步辐射技术及应用
• 页码范围: 943-945
• 页数: 3页
• 分类号: O484.4|O571.3
• 字数: 1832字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:0253-3219.2004.12.015

摘要

利用慢正电子束流技术和X射线光电子能谱研究了热致变色和电致变色三氧化钨(WO3)薄膜中W离子在膜内和表面的分布.结合其变色性能,讨论了热致变色和电致变色之间的相关性.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	王宝义	中国科学院高能物理研究所	69	258	9.0	12.0
2	奎热西	中国科学院高能物理研究所	15	37	4.0	5.0
3	钱海杰	中国科学院高能物理研究所	23	35	4.0	5.0
4	魏龙	中国科学院高能物理研究所	50	325	10.0	16.0
5	马创新	中国科学院高能物理研究所	11	27	3.0	4.0
6	周春兰	中国科学院高能物理研究所	19	245	8.0	15.0
7	秦秀波	中国科学院高能物理研究所	15	44	3.0	6.0
8	苏润	中国科学院高能物理研究所	16	142	7.0	11.0