腭顶高度对可摘局部义齿后腭边缘适合性的影响

• 作者: 严伟浩 付强 姚科 覃峰
• 来源期刊: 广州医药
• 关键词: 可摘局部义齿 基托 适合性
• 年，卷（期）: 2004,（6）
• 所属期刊栏目: 临床诊疗
• 页码范围: 49-50
• 页数: 2页
• 字数: 1667字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1000-8535.2004.06.025

摘要

目的观察腭顶高度与可摘局部义齿对后腭边缘适合性,以确定适当的用材和技术.方法采用由室温经40分钟升温至100℃,维持30分钟的水浴聚合法,用贺利氏公司生产的基托材料,分别为腭顶高度为14mm和7 mm的上颌模型制作活动义齿基托,用读数显微镜(0.005 mm),在开盒后及浸水1周时,测量基托后腭边缘的适合性.结果基托适合性受腭顶高度的影响具有统计学意义,高腭项基托的适合性较低腭顶者差(P＜0.05).结论适当刮除可摘局部义齿石膏模型上后腭边缘可提高基托适合性,建议刮除的深度可随腭顶高度的不同而不同.腭顶高者可多刮除一些.