离子束溅射沉积Ta2O5光学薄膜的实验研究

• 作者: 刘洪祥 张云洞 李凌辉 熊胜明
• 来源期刊: 光电工程
• 学科: 物理学
• 关键词: 离子束溅射 光学薄膜 离子辅助沉积 光学特性
• 年，卷（期）: 2004,（3）
• 所属期刊栏目: 薄膜光学
• 页码范围: 41-43,55
• 页数: 4页
• 分类号: O484.4
• 字数: 3329字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1003-501X.2004.03.012

摘要

根据择优溅射的理论,在不同的通氧方式下,详细分析了离子辅助对离子束溅射沉积Ta2O5薄膜光学特性的影响.结果表明,在薄膜生长的过程中,由于氩离子的轰击作用,薄膜中的氧原子被优先溅射出来,造成了薄膜化学剂量比失调、吸收增加.但是,通过优化辅助离子源中氧气的比例,可获得合理化学剂量比、低损耗的Ta2O5薄膜.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	张云洞	中国科学院光电技术研究所	45	372	10.0	16.0
2	熊胜明	中国科学院光电技术研究所	44	353	11.0	16.0
3	刘洪祥	中国科学院光电技术研究所	10	111	5.0	10.0
4	李凌辉	中国科学院光电技术研究所	8	57	4.0	7.0