GdFeCo/AIN/DyFeCo静磁耦合多层薄膜磁化方向转变的研究

• 作者: 干福熹 张约品 李佐宜 李震 林更琪 沈德芳 王现英
• 来源期刊: 中国激光
• 学科: 物理学
• 关键词: 薄膜 磁光记录 静磁耦合多层薄膜 磁化
• 年，卷（期）: 2004,（9）
• 所属期刊栏目: 薄膜
• 页码范围: 1095-1098
• 页数: 4页
• 分类号: O484.4+3
• 字数: 2406字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:0258-7025.2004.09.016

摘要

对GdFeCo/AlN/DyFeCo静磁耦合多层薄膜变温磁化方向变化进行了研究.结果表明读出层GdFeCo随温度上升从平面磁化转变成垂直磁化,转变过程中受饱和磁化强度(Ms)和有效各向异性常数影响,但主要受饱和磁化强度(Ms)的影响.在高温时读出层的磁化强度很小,退磁场能减小,在静磁耦合作用下,使GdFeCo读出层的磁化方向发生转变,而且磁化方向的转变在较小的温度范围内变化较快.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	李震	华中科技大学电子科学与技术系	139	769	14.0	21.0
2	张约品	中国科学院上海光学精密机械研究所	75	259	9.0	11.0
6	王现英	中国科学院上海光学精密机械研究所	13	50	4.0	6.0
7	沈德芳	中国科学院上海光学精密机械研究所	19	79	5.0	8.0
8	林更琪	华中科技大学电子科学与技术系	26	85	4.0	7.0
9	李佐宜	华中科技大学电子科学与技术系	59	267	7.0	13.0