间歇供N2闭炉的纯氮离子渗氮工艺

• 作者: 钟厉 韩西
• 来源期刊: 材料保护
• 学科: 工学
• 关键词: 纯氮离子渗氮 间歇供氮 闭炉 活性氮原子
• 年，卷（期）: 2004,（2）
• 所属期刊栏目: 工艺研究
• 页码范围: 22-25
• 页数: 4页
• 分类号: TG174.445
• 字数: 5157字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-1560.2004.02.009

摘要

基于纯N2离解产生活性氮原子能量条件的基本理论和纯氮离子渗氮模型,研究了间歇供N2闭炉纯氮离子渗氮新工艺以实现纯氮代替氨或氮-氢的离子渗氮.通过对渗氮层显微组织、相组成和硬度梯度的测定与分析,对纯氮离子渗氮工艺中N2分子临界离解能进行了理论计算和试验验证.结果表明,纯氮离子渗氮存在电压门槛值,只有在700 V左右的高电压下,并且采用间歇供N2闭炉方式进行离子渗氮,才能产生明显的渗氮效果.在相同的渗氮时间里,间歇供N2闭炉的纯氮离子渗氮可获得比常规纯氨离子渗氮更好的渗氮效果.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	韩西	重庆交通学院机电学院	57	638	13.0	23.0
2	钟厉	重庆交通学院机电学院	78	771	15.0	24.0