光强对喜树幼苗叶片次生代谢产物喜树碱的影响

• 作者: 戴绍军 王洋 阎秀峰
• 来源期刊: 生态学报
• 关键词: 光强 喜树 喜树碱
• 年，卷（期）: 2004,（6）
• 页码范围: 1118-1122
• 页数: 5页
• 分类号: Q945.79
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1000-0933.2004.06.004

摘要

喜树碱是我国特有树种--喜树中所含的重要次生代谢产物,在人工控制条件下观察了光强对喜树幼苗叶片喜树碱含量的影响.喜树幼苗叶片的喜树碱含量随着遮荫程度的增加(光照强度降低)而增加,但严重遮荫的(光强为全光照的20%)在处理后期(75 d)喜树碱含量降低.叶片的喜树碱产量(喜树碱含量与叶片生物量乘积)在处理初期(30 d)随光强减弱而缓慢地略有增加,处理后期(45 d以后)随光强的减弱而有明显增加,但光强低于全光照的60%以后喜树碱产量迅速下降.喜树碱的增加可能是喜树幼苗通过次生代谢过程对不良环境(遮荫)的一种适应性反应.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	王洋	东北林业大学生命科学学院	73	1741	21.0	40.0
2	阎秀峰	东北林业大学生命科学学院	150	4808	37.0	64.0
3	戴绍军	哈尔滨师范大学生命与环境科学学院	19	455	11.0	19.0