利用(110)硅片制作体硅微光开关的工艺研究

• 作者: 刘彩霞 张歆东 张龙 徐宝琨 董玮 陈维友
• 来源期刊: 半导体学报
• 学科: 工学
• 关键词: 微反射镜 {111}面 湿法腐蚀 粗糙度 氢氧化钾溶液
• 年，卷（期）: 2004,（1）
• 所属期刊栏目: 研究论文
• 页码范围: 99-103
• 页数: 5页
• 分类号: TN25|TN929.11
• 字数: 1888字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:0253-4177.2004.01.020

摘要

采用基于湿法腐蚀工艺的体硅微机械加工方法,利用(110)硅片结晶学特性,通过光刻、反应离子刻蚀和湿法刻蚀等工艺,在硅片上同时制作出微光开关的微反射镜结构、悬臂梁结构、扭臂梁结构和光纤定位槽结构,器件的一致性好,制作工艺简单.利用扇形定位区域,精确地沿(110)硅片的{111}面进行定向腐蚀,可使微反射镜镜面垂直度达到90±0.3°,经测量表面粗糙度低于6nm.