利用快速退火法控制非晶硅薄膜中纳米硅粒尺寸

• 作者: 李冠成 王秉坤 薛清
• 来源期刊: 半导体技术
• 学科: 工学
• 关键词: 纳米硅 快速热退火 非晶硅
• 年，卷（期）: 2004,（10）
• 所属期刊栏目: 专题报道(纳米电子与MEMES技术)
• 页码范围: 20-21,26
• 页数: 3页
• 分类号: TN305
• 字数: 1452字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1003-353X.2004.10.007

摘要

报道了利用快速退火法控制膜中纳米硅粒大小的方法,讨论了升温快慢与所形成的纳米硅粒大小的关系.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	薛清	淮海工学院数理科学系	10	16	2.0	3.0
2	李冠成	淮海工学院数理科学系	21	137	6.0	11.0
3	王秉坤	淮海工学院数理科学系	11	60	4.0	7.0