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摘要:
采用离子束溅射反应沉积技术,以高纯N2为工作气体,利用在不同气压下产生的离子束轰击石墨靶,在石英基片上溅射出的碳原子与氮离子反应,沉积出a-CNx薄膜.在室温下,研究薄膜的暗电导和在卤素光源照射下的光电导、光响应增益、响应时间等性质,以及制备工艺和掺杂、氢化对这些性质的影响及关系.实验结果表明:未掺杂的a-CNx薄膜的光响应增益达18,磷掺杂薄膜的光响应增益为3.0,经过氢化处理的未掺杂a-CNx薄膜的光响应增益为30,光响应时间大约为300s.
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文献信息
篇名 光伏新材料a-CNx薄膜的光电响应性质
来源期刊 半导体学报 学科 物理学
关键词 氮化碳薄膜 磷掺杂a-CNx 离子束溅射 光电响应
年,卷(期) 2004,(4) 所属期刊栏目 研究论文
研究方向 页码范围 400-403
页数 4页 分类号 O484
字数 1787字 语种 中文
DOI 10.3321/j.issn:0253-4177.2004.04.008
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 崔容强 上海交通大学物理系太阳能研究所 38 544 14.0 22.0
2 周之斌 上海交通大学物理系太阳能研究所 11 83 5.0 9.0
3 刘梅苍 上海交通大学物理系太阳能研究所 1 2 1.0 1.0
4 丁正明 上海交通大学物理系太阳能研究所 5 45 3.0 5.0
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研究主题发展历程
节点文献
氮化碳薄膜
磷掺杂a-CNx
离子束溅射
光电响应
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
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期刊影响力
半导体学报(英文版)
月刊
1674-4926
11-5781/TN
大16开
北京912信箱
2-184
1980
eng
出版文献量(篇)
6983
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8
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