Fe-Ni合金薄膜的结构和磁性

• 作者: 李晓红 杨正
• 来源期刊: 物理学报
• 学科: 物理学
• 关键词: Fe-Ni薄膜 磁头材料
• 年，卷（期）: 2004,（5）
• 所属期刊栏目: 凝聚物质:电子结构、电学、磁学和光学性质
• 页码范围: 1510-1515
• 页数: 6页
• 分类号: O4
• 字数: 3994字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1000-3290.2004.05.044

摘要

用射频磁控溅射制备了Fe-Ni薄膜,研究了薄膜成分、溅射条件及热处理温度对薄膜结构和磁性的影响.通过选择适当的溅射条件和热处理温度,可得到适合于磁头材料应用的高饱和磁化强度的Fe-Ni软磁薄膜.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	杨正	兰州大学磁性材料研究所	21	226	8.0	14.0
2	李晓红	兰州大学磁性材料研究所	9	324	7.0	9.0