Ni-Zn铁氧体薄膜的结构和磁性

• 作者: 崔艺涛 杨正 高建华
• 来源期刊: 物理学报
• 学科: 物理学
• 关键词: 薄膜 Ni-Zn铁氧体 交替溅射
• 年，卷（期）: 2004,（10）
• 所属期刊栏目: 凝聚物质:电子结构、电学、磁学和光学性质
• 页码范围: 3550-3554
• 页数: 5页
• 分类号: O4
• 字数: 2853字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1000-3290.2004.10.059

摘要

采用交替溅射方法制备了Ni-Zn铁氧体薄膜,并研究了薄膜成分和制备条件例如热处理温度、氧分压、膜厚、衬底层等因素对Ni-Zn铁氧体薄膜的影响.实验表明沉积态薄膜为非晶态,经大气中不同温度热处理后得到了尖晶石结构,其主峰为(311)峰.另外,通过不同条件对Ni-Zn铁氧体薄膜的研究,找到了合适的Ni-Zn铁氧体薄膜的制备条件.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	杨正	兰州大学磁性材料研究所	21	226	8.0	14.0
2	高建华	兰州大学磁性材料研究所	2	9	1.0	2.0
3	崔艺涛	兰州大学磁性材料研究所	1	9	1.0	1.0