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摘要:
溅射技术以其在制备薄膜中的独特优点,成为获得高性能纳米材料的重要手段.本文介绍了离子束溅射和磁控溅射技术的基本原理、方法及其在制备纳米材料中的应用和优点,以国内外这方面的最新进展.文章最后对我国纳米材料今后的应用及发展前景进行了展望.
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文献信息
篇名 溅射法制备纳米薄膜材料及进展
来源期刊 半导体技术 学科 物理学
关键词 溅射法 纳米薄膜 材料制备
年,卷(期) 2004,(7) 所属期刊栏目 支撑技术
研究方向 页码范围 70-73
页数 4页 分类号 O484.1
字数 2360字 语种 中文
DOI 10.3969/j.issn.1003-353X.2004.07.019
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作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 贾嘉 中国科学院上海技术物理研究所传感技术国家重点实验室 10 159 5.0 10.0
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纳米薄膜
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半导体技术
月刊
1003-353X
13-1109/TN
大16开
石家庄179信箱46分箱
18-65
1976
chi
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