VLSI用超纯水制备系统设计中的一些重点问题

• 作者: 刘朋 杨宝和 王水弟 陈为红
• 来源期刊: 工业水处理
• 关键词: 超大规模集成电路 两级反渗透 电连续去离子 脱氧膜组 抛光混床
• 年，卷（期）: 2004,（4）
• 所属期刊栏目: 经验交流
• 页码范围: 59-60
• 页数: 2页
• 分类号: TU991.63
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1005-829X.2004.04.019

摘要

介绍了清华大学微电子学研究所VLSI用超纯水系统在设计过程中的一些特殊要求和遇到的重点问题.该系统在两级反渗透、电连续去离子、真空膜脱氧、高纯材料的使用、超痕量分析技术以及上位计算机监控等方面都代表了当今超纯水技术的先进水平.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	王水弟	清华大学微电子学研究所	16	202	7.0	14.0
2	刘朋	清华大学微电子学研究所	4	10	2.0	3.0
3	陈为红	清华大学微电子学研究所	2	6	1.0	2.0
4	杨宝和	清华大学微电子学研究所	2	6	1.0	2.0