光化学沉积制备聚吡咯/Nafion(R)/Pt复合膜对于O2的还原特性研究

• 作者: 井新利 杨庆浩 王杨勇
• 来源期刊: 功能材料
• 学科: 化学
• 关键词: 氧气还原 聚吡咯 铂当量 隔膜
• 年，卷（期）: 2004,（6）
• 所属期刊栏目: 研究与开发
• 页码范围: 716-718
• 页数: 3页
• 分类号: O644.1|TQ251.3
• 字数: 2426字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1001-9731.2004.06.018

摘要

以本征型导电高分子材料为催化剂,通过催化光化学还原反应,在聚吡咯/Nafion(R)复合膜上沉积了低当量、高氧气催化还原效率的催化剂铂(20～50μg/cm2).采用静态和旋转圆盘电极的循环伏安方法,研究不同沉积条件对还原反应影响的基础上,同时实现了较低的铂当量(30μg/cm2)下较高的氧气催化还原活性(极限还原电流8mA/cm2).该复合膜有望成为氧气直燃型聚合物膜燃料电池的理想阴极膜.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	井新利	西安交通大学环境与化学工程学院	42	738	14.0	26.0
2	王杨勇	西安交通大学环境与化学工程学院	20	477	11.0	20.0
3	杨庆浩	西安交通大学环境与化学工程学院	7	71	4.0	7.0