纳米SiO2粒子抛光液的制备及其抛光性能

• 作者: 潘国顺 雒建斌 雷红
• 来源期刊: 润滑与密封
• 学科: 工学
• 关键词: 化学机械抛光(CMP) 硬盘基片 纳米SiO2粒子 抛光液
• 年，卷（期）: 2004,（3）
• 所属期刊栏目: 开发应用
• 页码范围: 84-86
• 页数: 3页
• 分类号: TB383
• 字数: 2754字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.0254-0150.2004.03.029

摘要

随着计算机磁头与磁盘间间隙的不断减小,硬盘表面要求超光滑.制备了一种纳米SiO2抛光液,并研究了镍磷敷镀的硬盘基片在其中的抛光性能,Chapman MP2000+ 表面形貌仪测得抛光后表面的平均粗糙度(Ra)和波纹度(Wa)分别为0.052nm及0.063nm,为迄今报道的硬盘抛光的最低值.原子力显微镜(AFM)发现获得的基片表面非常光滑平整,表面无划痕、凹坑、点蚀等表面缺陷.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	潘国顺	清华大学摩擦学国家重点实验室	27	358	12.0	18.0
2	雷红	上海大学纳米中心	22	456	10.0	21.0
4	雒建斌	清华大学摩擦学国家重点实验室	96	1802	22.0	37.0