磁性Salisbury屏的高频响应

• 作者: 伍瑞新 陈平
• 来源期刊: 物理学报
• 学科: 物理学
• 关键词: 磁性Salisbury屏 反射率 频带响应 磁性薄膜
• 年，卷（期）: 2004,（9）
• 所属期刊栏目: 核物理学
• 页码范围: 2915-2918
• 页数: 4页
• 分类号: O4
• 字数: 2094字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1000-3290.2004.09.020

摘要

研究了利用磁性薄膜构造Salisbury屏的可能性及其在微波频段的反射率频率特性.结果表明,利用铁磁性材料在铁磁共振频率附近磁化率具有χ″>χ′的特性,可以构造出对电磁波有良好吸收性能的磁性Salisbury屏.通过对铁磁材料高频磁谱物理机理的分析后指出,具有弛豫型共振磁谱的铁磁材料可以构造出薄膜型Salisbury屏,其厚度为微米甚至亚微米量级.反射率的频率特性与磁性材料的特征阻抗zr有关,它取决于铁磁共振频率和静态磁化率.反射率的频率响应显示磁性薄膜Salisbury屏具有较宽的吸收带宽.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	陈平	南京大学电子科学与工程系	30	185	8.0	12.0
2	伍瑞新	南京大学电子科学与工程系	23	120	6.0	10.0