多孔金属连续电沉积数学模型

• 作者: 吴宁 姜兆华 戴长松 王殿龙
• 来源期刊: 化工学报
• 关键词: 多孔金属 表观电阻 连续电沉积 电流密度
• 年，卷（期）: 2004,（7）
• 所属期刊栏目: 表面与界面工程
• 页码范围: 1140-1144
• 页数: 5页
• 分类号: TM912.2
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:0438-1157.2004.07.021

摘要

采用电沉积方法制备连续多孔金属,通过把电流密度随时间的变化转换为镀区内的位置分布,建立了稳恒状态下高孔率带状多孔金属连续电沉积动态模型,推导出表观电流密度分布的数学表达式.并在多孔金属镍实际制备过程中对模型进行了验证,结果表明带状多孔金属与阳极配置满足一定角度时,实现阴极表观电流密度恒定,镍的结晶细致.这一工作为电沉积法制备多孔金属的在线控制提供了理论依据.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	姜兆华	哈尔滨工业大学应用化学系	152	1472	21.0	30.0
2	戴长松	哈尔滨工业大学应用化学系	57	529	13.0	20.0
3	王殿龙	哈尔滨工业大学应用化学系	55	546	13.0	20.0
4	吴宁	哈尔滨工业大学应用化学系	4	43	3.0	4.0