BB-520型全息介质的线性处理工艺

• 作者: 刘振清 叶雁 李作友 李泽仁 罗振雄 郑贤旭 钟杰
• 来源期刊: 中国工程物理研究院科技年报
• 学科: 工学
• 关键词: 全息记录介质 工艺过程 线性处理 显影时间 测试技术 显影温度 次临界试验 曝光量
• 年，卷（期）: 2004,（1）
• 页码范围: 240
• 页数: 1页
• 分类号: TQ577.41

摘要

全息介质的处理技术和工艺研究是全息测试技术的关键环节，美国LANL实验室在进行Holog次临界试验时曾因散射光使记录介质严重过曝而未能获取相关信息。通过对BB-520型全息记录介质的曝光、显影、定影、水洗等工艺过程的处理液配方、处理环境、处理温度、处理时间等的研究，提出全息记录介质的处理方法。曝光量和显影时间、显影温度是相互关联的3个量，在一定范围内曝光量饱和不足时，可以通过调节显影时间和显影温度两个参数来补偿。