基于模型的光学校正系统的设计与实现

• 作者: 严晓浪 史峥 王国雄 陈志锦
• 来源期刊: 浙江大学学报(工学版)
• 学科: 工学
• 关键词: 光刻模拟 光学邻近校正 移相掩模
• 年，卷（期）: 2004,（5）
• 所属期刊栏目: 电子、通信与自动控制技术
• 页码范围: 521-524,548
• 页数: 5页
• 分类号: TN305.7
• 字数: 4001字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3785/j.issn.1008-973X.2004.05.001

摘要

为了使光刻结果更好地符合版图设计,保证在硅片上制造出的电路在功能上与设计电路一致,提出了一种对掩模进行自动补偿的系统性技术.根据光刻机和光刻胶特性,模拟了实际的光刻过程.校正处理的核心是基于模型的掩模图形优化模块,通过调用光刻模拟器直接对输入待校正的掩模图形进行优化.最后通过对掩模版图的验证,保证校正后的掩模图形满足成像图形的精度要求.应用实例证明,该系统准确实现了版图的精确设计与校正.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	王国雄	浙江大学超大规模集成电路设计研究所	20	98	6.0	9.0
2	史峥	浙江大学超大规模集成电路设计研究所	51	176	7.0	11.0
3	严晓浪	浙江大学超大规模集成电路设计研究所	246	1634	19.0	29.0
4	陈志锦	浙江大学超大规模集成电路设计研究所	7	51	4.0	7.0