半导体制造中颗粒污染的控制方法研究

• 作者: 李敬 钱省三
• 来源期刊: 半导体技术
• 学科: 工学
• 关键词: 污染 成品率 C控制图 多元回归分析
• 年，卷（期）: 2004,（8）
• 所属期刊栏目: 集成电路制造技术
• 页码范围: 38-40,46
• 页数: 4页
• 分类号: TN305.97
• 字数: 2454字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1003-353X.2004.08.010

摘要

首先分析了半导体制造中颗粒污染的来源,然后介绍了用C控制图进行颗粒污染控制的方法及其不足,进而提出了用多元回归分析进行颗粒污染控制的方法及实施.