不同能量离子束辅助沉积对形成氮化钛薄膜性能的影响

• 作者: 李德军 李立 赵杰 顾汉卿
• 来源期刊: 功能材料
• 学科: 物理学
• 关键词: 离子束辅助沉积(IBAD) 氮化钛(TiN) 附着力 耐腐蚀 细胞体外培养
• 年，卷（期）: 2004,（4）
• 所属期刊栏目: 研究与开发
• 页码范围: 520-523,526
• 页数: 5页
• 分类号: O484
• 字数: 5676字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1001-9731.2004.04.041

摘要

用不同能量离子束辅助沉积方法在医用不锈钢317L和Si(100)基底上沉积TiN薄膜.通过X射线光电子能谱(XPS)、X射线衍射(XRD)和俄歇电子能谱(AES)分析研究了薄膜的结构特征;测试了薄膜与基底的附着力和耐磨性;用电化学腐蚀的方法检测了薄膜在Hank's模拟体液中的耐腐蚀性能;最后采用成纤维细胞、骨髓细胞体外培养试验考察了生长于不同薄膜表面的细胞粘附、增殖、展布情况及细胞的形态.研究结果表明:用高、低能氮离子兼用的IBAD方法制备的TiN多晶薄膜比只用高能或低能沉积的薄膜具有更强的附着力和耐磨性,在Hank's模拟体液中显示出更强的抗腐蚀能力,并在细胞体外培养中显示出良好的细胞相容性.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	顾汉卿	天津医科大学泌尿外科研究所	50	305	10.0	15.0
2	李德军	天津师范大学物理与电子信息学院材料研究所	73	242	7.0	11.0
3	赵杰	天津师范大学物理与电子信息学院材料研究所	40	171	8.0	11.0
4	李立	天津师范大学物理与电子信息学院材料研究所	2	36	2.0	2.0