定向离子清洗对基片表面性质的影响

• 作者: 张东平 张大伟 王英剑 范树海 范正修 邵建达
• 来源期刊: 中国激光
• 学科: 物理学
• 关键词: 薄膜 离子清洗 离子源 粗糙度
• 年，卷（期）: 2004,（12）
• 所属期刊栏目: 薄膜
• 页码范围: 1473-1477
• 页数: 5页
• 分类号: O484
• 字数: 4070字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:0258-7025.2004.12.016

摘要

为提高高功率激光薄膜的抗激光损伤能力,研究了定向离子清洗对玻璃基片表面性质的影响.用End-Hall型离子源在不同清洗参数下对K9玻璃基片进行了清洗,用光学显微镜验证了基片的二次污染和离子的清洗效果,用静滴接触角仪测量了基片在离子清洗前后对水滴的接触角,用原子力显微镜和轮廓仪分别观测了不同参数的离子清洗前后的基片表面形貌和粗糙度,分析了基片清洗后表面性质如清洁、表面能、接触角、表面粗糙度、表面形貌的变化机理.研究表明定向离子清洗可有效去除二次污染、增加基片表面能、控制基片表面粗糙度和表面形貌,是一种有效改善基片表面性质的处理方法.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	邵建达	中国科学院上海光学精密机械研究所光学薄膜研究与发展中心	212	2131	21.0	29.0
2	张大伟	中国科学院上海光学精密机械研究所光学薄膜研究与发展中心	38	189	7.0	12.0
3	张东平	中国科学院上海光学精密机械研究所光学薄膜研究与发展中心	8	84	5.0	8.0
4	范树海	中国科学院上海光学精密机械研究所光学薄膜研究与发展中心	6	134	5.0	6.0
5	王英剑	中国科学院上海光学精密机械研究所光学薄膜研究与发展中心	21	254	11.0	15.0