氧化钪掺杂、亚微米结构多孔钨基扩散阴极的研究

• 作者: 刘伟 古昕 周美玲 张珂 李季 潘克新 王亦曼 王金淑 袁海清
• 来源期刊: 功能材料
• 学科: 工学
• 关键词: 钪钨阴极 离子轰击 氧化钪 显微结构 电子发射性能
• 年，卷（期）: 2004,（z1）
• 所属期刊栏目: 电功能材料及其应用
• 页码范围: 1374-1378,1382
• 页数: 6页
• 分类号: TB383
• 字数: 4485字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1001-9731.2004.z1.386

摘要

为了改进氧化钪的分布均匀性及提高阴极表面氧化钪的扩散补充能力,作者在前期研究的基础上,分别采用液固掺杂和液液掺杂的方法制备了Sc2O3掺杂W粉基材,研究了利用这种W粉制作多孔钨基体的工艺技术和多孔体的微观结构.研究表明在改进压制、烧结技术的基础上,可以获得具有适当孔度的亚微米结构多孔基体.氧化钪在基体中的分布得到进一步改进.在这种基体中铝酸盐的浸渍率可以达到常规浸渍阴极的要求.发射试验结果表明,阴极具有很高的发射水平.研究还证实多孔体的结构越趋细微,越有利于阴极的发射均匀性和耐离子轰击的性能的改善.