用SiCl4-H2低温沉积多晶硅薄膜微结构的Raman分析

• 作者: 余楚迎 余运鹏 林揆训 林璇英 黄创君 黄锐
• 来源期刊: 物理学报
• 学科: 物理学
• 关键词: 拉曼散射光谱 多晶硅薄膜 微结构
• 年，卷（期）: 2004,（5）
• 所属期刊栏目: 凝聚物质:电子结构、电学、磁学和光学性质
• 页码范围: 1558-1561
• 页数: 4页
• 分类号: O4
• 字数: 3289字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1000-3290.2004.05.053

摘要

用拉曼散射谱研究以SiCl4/H2为气源,用射频辉光放电等离子体增强化学气相沉积技术,在200℃低温下沉积多晶硅薄膜的微结构特征.结果表明,薄膜表层包含有大量微晶相的纳米硅晶粒和非晶相的硅聚合物,随射频功率增加,晶相结构的成分增大.另一方面,深度拉曼谱分布的研究也显示薄膜的晶化度和晶粒尺度随纵向深度的增加逐渐增大.因此可以认为,在多晶硅薄膜生长的最初阶段,空间反应过程对低温晶化起重要作用.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	林璇英	汕头大学物理系	40	400	10.0	18.0
2	黄锐	汕头大学物理系	9	73	5.0	8.0
3	林揆训	汕头大学物理系	29	339	9.0	18.0
4	余楚迎	汕头大学物理系	27	321	9.0	17.0
5	黄创君	汕头大学物理系	5	105	4.0	5.0
6	余运鹏	汕头大学物理系	1	21	1.0	1.0