溅射功率对Fe-Si-B-Nb-Cu薄膜微结构与磁性的影响

• 作者: 杨燮龙 梁锐生 石旺舟 马学鸣
• 来源期刊: 物理学报
• 学科: 物理学
• 关键词: 溅射功率 Fe-Si-B-Nb-Cu合金 薄膜微结构 磁矩取向
• 年，卷（期）: 2004,（10）
• 所属期刊栏目: 物理学交叉学科及有关科学技术领域
• 页码范围: 3614-3618
• 页数: 5页
• 分类号: O4
• 字数: 2859字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1000-3290.2004.10.071

摘要

通过射频磁控溅射法制备了Fe-Si-B-Nb-Cu薄膜,采用x射线衍射与Mssbauer谱相结合分析了薄膜的微结构形态,研究了不同溅射功率对薄膜微结构的影响.其结果表明:在较低溅射功率密度下,薄膜为无定型结构;随着溅射功率密度升高,沉积薄膜无需热处理,便呈现出晶态和非晶态的混合相结构,晶态为纳米级的α-Fe(Si)和α-Fe(B)固溶体;α-Fe(Si)相和α-Fe(B)相的体积分数、微结构组态、磁矩取向及宏观磁性能均随着溅射功率的变化而变化.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	杨燮龙	华东师范大学物理系	43	398	10.0	18.0
2	马学鸣	华东师范大学物理系	26	277	10.0	16.0
3	石旺舟	华东师范大学物理系	10	59	4.0	7.0
4	梁锐生	汕头大学物理系	2	43	2.0	2.0