不同温度还原超细K-Co-Mo催化剂的XPS研究

• 作者: 伏义路 孙中海 鲍骏
• 来源期刊: 石油化工
• 学科: 化学
• 关键词: 还原温度 超细K-Co-Mo催化剂 低碳醇合成 XPS
• 年，卷（期）: 2004,（z1）
• 所属期刊栏目: 催化剂表征、催化反应动力学和机理
• 页码范围: 627-629
• 页数: 3页
• 分类号: O643.32
• 字数: 2405字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1000-8144.2004.z1.243

摘要

采用XPS技术研究了合成低碳醇反应中还原温度对超细K-Co-Mo催化剂结构的影响.分别考察不同还原温度下K、Co和Mo活性物种的价态以及相对含量的变化.结果表明,表面上Mo主要以两种价态存在(+4和+6).随还原温度的升高,催化剂表面上Mo4+/Mo6+比值增大,较高的Mo4+/Mo6+比值有利于形成合成醇反应中活性位.催化剂表面上的Co以+2价存在.还原温度低于500℃时,催化剂表面上Co2+的相对含量变化不大,当还原温度为550℃时,催化剂表面上的Co2+迅速减少,这种催化剂表面上Co2+的迅速减少可能导致合成醇活性的迅速降低.K+在还原温度低于500℃时,相对含量没有明显变化,经550℃还原后,K+在催化剂表面明显富集.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	鲍骏	中国科学技术大学化学物理系	23	233	8.0	15.0
2	伏义路	中国科学技术大学化学物理系	40	499	12.0	20.0
3	孙中海	中国科学技术大学化学物理系	4	23	3.0	4.0