Ga2O3/γ-Al2O3表面丙烷选择性还原NO的反应机理研究

• 作者: Josef Find Julius A Nickl Klaus K(o)hler Martin Paulus 何川华 储伟
• 来源期刊: 石油化工
• 学科: 工学
• 关键词: 选择催化还原(SCR) NOx消除反应 氧化铝 氧化镓 原位红外光谱研究 反应机理
• 年，卷（期）: 2004,（z1）
• 所属期刊栏目: 催化剂表征、催化反应动力学和机理
• 页码范围: 768-770
• 页数: 3页
• 分类号: TQ116.2
• 字数: 2383字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1000-8144.2004.z1.295

摘要

对不同催化剂的制备方法及催化剂中镓含量对催化剂活性的影响进行了研究,对Ga2O3/γ-Al2O3催化剂中的活性中心进行了讨论;用原位红外技术、暂态反应技术、程序升温脱附和程序升温表面反应等方法对Ga2O3/γ-Al2O3表面丙烷选择性还原NO的反应机理进行了研究.对催化剂表面各吸附物种的形成和反应性能、NO对丙烷氧化的影响进行了详细的研究,实验结果与化学计量学计算结果相结合可以推测出哪些吸附物种涉及NO的选择性还原,哪些吸附物种没有参与NO的还原反应,从而推断出在Ga2O3/γ-Al2O3催化剂表面丙烷选择性还原NO的反应机理.