铜电解添加剂的工业监控

• 作者: 张登凯 李仕雄 林升叨 王玉芳 谢大元
• 来源期刊: 中国有色金属学报
• 学科: 工学
• 关键词: 铜电解 添加剂 阴极过电位 监控
• 年，卷（期）: 2004,（1）
• 所属期刊栏目: 选矿·冶金·化学
• 页码范围: 132-137
• 页数: 6页
• 分类号: TF1|TP205
• 字数: 4547字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1004-0609.2004.01.027

摘要

研究了铜电解精炼过程中添加剂工业监控的原理和方法.研究结果表明:阴极过电位是电解液性质的实时反映,通过阴极过电位的工业监控可得出不同电解条件时,添加剂最佳量的控制,从而在复杂铜电解过程中使高纯阴极铜生产的稳定性提高了6%;平均电流效率提高了1%.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	李仕雄	中南大学冶金科学与工程学院	21	140	7.0	11.0
2	张登凯	中南大学冶金科学与工程学院	3	24	2.0	3.0
3	谢大元	中南大学冶金科学与工程学院	2	17	1.0	2.0
4	林升叨		1	17	1.0	1.0
5	王玉芳		2	24	2.0	2.0