TiN/SiC纳米多层膜的生长结构与力学性能

• 作者: 劳技军 孔明 张惠娟 李戈扬
• 来源期刊: 物理学报
• 学科: 物理学
• 关键词: 立方碳化硅 TiN/SiC纳米多层膜 外延生长 超硬效应
• 年，卷（期）: 2004,（6）
• 所属期刊栏目: 凝聚物质:结构、热学和力学性质
• 页码范围: 1961-1966
• 页数: 6页
• 分类号: O4
• 字数: 5510字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1000-3290.2004.06.064

摘要

研究了TiN/SiC纳米多层膜中立方SiC(Bl-cubic SiC)的形成及其对TiN/SiC多层膜力学性能的影响.结果表明:在TiN/SiC多层膜中,非晶态的SiC层在厚度小于0.6nm时形成立方结构并与TiN形成共格外延生长的超晶格柱状晶,使多层膜产生硬度和弹性模量显著升高的超硬效应,最高硬度超过60GPa.SiC随着层厚的增加转变为非晶相,从而阻止了多层膜的共格外延生长,使薄膜呈现TiN纳米晶和SiC非晶组成的层状结构特征,同时多层膜的硬度和弹性模量下降.TiN/SiC纳米多层膜产生的超硬效应与立方SiC的形成及多层膜共格生长有关.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	孔明	上海交通大学金属基复合材料国家重点实验室	19	194	8.0	13.0
2	李戈扬	上海交通大学金属基复合材料国家重点实验室	109	1036	18.0	25.0
3	张惠娟	上海交通大学高温材料与高温测试教育部重点实验室	9	102	5.0	9.0
4	劳技军	上海交通大学金属基复合材料国家重点实验室	9	100	6.0	9.0