预处理条件对Pt/Al2O3催化还原NO的活性影响

• 作者: 傅立新 李俊华 王静
• 来源期刊: 高等学校化学学报
• 学科: 化学
• 关键词: 预处理 Pt/Al2O3 催化还原NO
• 年，卷（期）: 2004,（6）
• 页码范围: 1090-1095
• 页数: 6页
• 分类号: O643
• 字数: 4022字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:0251-0790.2004.06.016

摘要

用溶胶-凝胶法制备Al2O3载体, 浸渍法制备质量分数为0.5的Pt/Al2O3催化剂. 研究焙烧气氛和温度对选择性催化还原NO反应活性和Pt价态的影响. 结果表明, H2焙烧的活性温度区间最宽, 随着焙烧温度的升高, 温度区间变化很小, 523 K下O2焙烧的催化剂活性最好, 且活性区间向高温方向移动. 活性现象用程序升温脱附实验(NO-TPD, NO-O2-TPD)进行了解释. XPS研究表明, 523 K下O2用焙烧Pt的主要价态是Pt2+, 而523 K下H2和N2焙烧Pt的主要价态为Pt0.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	傅立新	清华大学环境科学与工程系	73	1753	22.0	40.0
2	李俊华	清华大学环境科学与工程系	72	1297	21.0	34.0
3	王静	清华大学环境科学与工程系	29	125	6.0	10.0