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高斯国际将在Graph Expo2004上展出其扩展的商业印刷产品和技术
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摘要：
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高斯过程回归下的扩展目标高斯粒子滤波算法
高斯过程
星凸模型
高斯粒子滤波
扩展目标
形状估计
结合GMM和Graph-Cuts的直观传输函数设计方法
直接体绘制
传输函数
Graph-Cuts算法
高斯混合模型
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研究主题发展历程
节点文献
高斯公司
Graph
Expo展览会
2004年上
商业印刷产品
产品展示
轮转印刷
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
中国印刷
主办单位：
中国印刷技术协会
出版周期：
月刊
ISSN：
1000-663X
CN：
11-1701/TS
开本：
16开
出版地：
北京市宣武区太平街6号富力摩根中心D座709室
邮发代号：
82-929
创刊时间：
1938
语种：
chi
出版文献量（篇）
8211
总下载数（次）
1
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