钛膜表面氧气氧化层研究

• 作者: 刘文科 张晓红 彭述明 曹小华 李宏发 杨本福 杨茂年 王维笃 颜登云 龙兴贵
• 来源期刊: 材料导报
• 关键词: 钛膜 表面 氧化层 连续
• 年，卷（期）: 2004,（5）
• 所属期刊栏目: 材料研究
• 页码范围: 92-94
• 页数: 3页
• 字数: 3423字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1005-023X.2004.05.026

摘要

研究了钼基钛膜表面氧气氧化工艺;用XRD分析了氧气氢化层的物相,其物相随氧化条件而异,含有Ti、TiO2、TiO、Ti2O、Ti3O和Ti6O等多种物相;用XPS研究了氧气氧化层钛的主要价态,其主要价态为+4、+3和+2价;用AES深度剖析研究了氧气氧化层的厚度,并研究了温度、氧气压力和时间对氧气氧化层厚度影响的规律;所有氧气氧化层均不与腐蚀介质发生作用,证明了该氧化层致密连续.