偶氮金属镍薄膜的折射率和吸收特性研究

• 作者: 干福熹 耿永友 顾冬红
• 来源期刊: 中国激光
• 学科: 物理学
• 关键词: 薄膜物理学 薄膜光学常数 椭偏光谱 偶氮金属镍鳌合物
• 年，卷（期）: 2004,（9）
• 所属期刊栏目: 薄膜
• 页码范围: 1091-1094
• 页数: 4页
• 分类号: O484
• 字数: 2468字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:0258-7025.2004.09.015

摘要

偶氮金属镍(Ni(azo)2)是一类具有很大潜力的可录光盘存储介质.为了准确地获取一种偶氮金属镍薄膜的光学常数,用旋涂法(Spin-coating)在单晶硅片上制备了Ni(azo)2薄膜.在波长扫描和入射角可变全自动椭圆偏振光谱仪上研究了Ni(azo)2薄膜的椭偏光谱.采用逼近算法获得了Ni(azo)2薄膜在可见光范围内的复折射率、复介电函数、吸收系数和薄膜厚度.分析了Ni(azo)2薄膜可见吸收光谱的形成机理.结果表明在波长650 nm处薄膜的折射率为2.19,吸收常数为0.023,具有良好的吸收和反射特性,显示出作为高密度数字多用光盘(DVD-R)记录介质的良好应用前景.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	干福熹	中国科学院上海光学精密机械研究所	288	2527	23.0	29.0
2	顾冬红	中国科学院上海光学精密机械研究所	65	551	12.0	19.0
3	耿永友	中国科学院上海光学精密机械研究所	15	99	4.0	9.0