原位等离子体逐层氧化a-Si:H/SiO2多层膜的光致发光研究

• 作者: 冯端 朱达 李伟 陈坤基 马忠元 黄信凡
• 来源期刊: 物理学报
• 学科: 物理学
• 关键词: a-Si:H/SiO2多层膜 光致发光
• 年，卷（期）: 2004,（8）
• 所属期刊栏目: 凝聚物质:电子结构、电学、磁学和光学性质
• 页码范围: 2746-2750
• 页数: 5页
• 分类号: O4
• 字数: 3325字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1000-3290.2004.08.059

摘要

采用在等离子体增强化学汽相沉积系统中沉积a-Si:H和原位等离子体逐层氧化的方法制备a-Si:H/SiO2多层膜.改变a-Si:H层的厚度,首次在室温下观察到来自a-Si:H/SiO2多层膜较强的蓝色光致发光和从465到435 nm的蓝移.x射线能谱证明,SiO2层是化学配比的SiO2;C-V特性表明,a-Si:H/SiO2界面得到了很好的钝化;透射电子显微镜表明,样品形成了界面陡峭的多层结构.结合光吸收谱和光致发光谱的研究,对其发光机理进行了讨论.用一维量子限制模型对光致发光峰随着a-Si:H层厚度的减小而蓝移作出了解释,认为蓝光发射可能来自a-Si:H层带尾态中的电子和空穴的复合.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	黄信凡	南京大学固体微结构物理国家重点实验室	11	88	4.0	9.0
2	李伟	南京大学固体微结构物理国家重点实验室	61	167	6.0	10.0
3	陈坤基	南京大学固体微结构物理国家重点实验室	31	53	5.0	6.0
4	冯端	南京大学固体微结构物理国家重点实验室	31	353	7.0	18.0
5	马忠元	南京大学固体微结构物理国家重点实验室	5	15	3.0	3.0
6	朱达	南京大学固体微结构物理国家重点实验室	1	0	0.0	0.0