溅射气压对ZrO2薄膜微结构与光学性能的影响

• 作者: 刘建华 徐可为
• 来源期刊: 功能材料
• 学科: 物理学
• 关键词: ZrO2薄膜 磁控溅射 溅射气压 相结构 O/Zr
• 年，卷（期）: 2004,（z1）
• 所属期刊栏目: 光功能材料及其应用
• 页码范围: 292-294,299
• 页数: 4页
• 分类号: O484.4
• 字数: 1696字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1001-9731.2004.z1.068

摘要

利用射频反应磁控溅射在显微玻璃、单晶硅片、NaCl和石英上沉积ZrO2薄膜.膜厚60～80nm.研究发现,溅射气压升高,薄膜结晶程度降低,同时存在单斜相和四方相;晶粒尺寸增大;折射率上升;透射率在700～1000nm波段上升.这些结果表明溅射气压影响ZrO2薄膜生长机制、微观结构和成份,进而影响其光学性能.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	徐可为	西安交通大学金属材料强度国家重点实验室	238	3333	30.0	44.0
2	刘建华	西安交通大学金属材料强度国家重点实验室	12	57	5.0	7.0