外延薄膜生长的实时监测分析研究

• 作者: 刘兴钊 张鹰 李言荣 李金隆 邓新武 陶伯万
• 来源期刊: 功能材料
• 学科: 物理学
• 关键词: 薄膜生长 实时监测 RHEED
• 年，卷（期）: 2004,（2）
• 所属期刊栏目: 研究与开发
• 页码范围: 265-266,270
• 页数: 3页
• 分类号: O484.1|O484.5
• 字数: 1733字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1001-9731.2004.02.046

摘要

利用反射式高能电子衍射(RHEED)在超高真空中对SrTiO3(100)、LaAlO3(100)、Si(100)单晶基片进行分析,讨论了衍射花样与晶体表面结构的对应关系,计算出表面的晶体学参数,同时采用激光分子束外延技术同质外延生长SrTiO3薄膜,根据RHEED衍射图样及强度振荡曲线实时监控薄膜的生长.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	张鹰	电子科技大学微电子与固体电子学院	47	169	7.0	9.0
2	邓新武	电子科技大学微电子与固体电子学院	17	97	5.0	9.0
3	李金隆	电子科技大学微电子与固体电子学院	12	66	5.0	7.0
4	李言荣	电子科技大学微电子与固体电子学院	115	824	15.0	21.0
5	刘兴钊	电子科技大学微电子与固体电子学院	56	310	9.0	14.0
6	陶伯万	电子科技大学微电子与固体电子学院	39	165	5.0	10.0