微电子用光敏聚酰亚胺材料的分子设计研究

• 作者: 何为 唐先忠 李元勋 韩莉坤
• 来源期刊: 材料导报
• 关键词: 光敏聚酰亚胺 光敏性二胺 羟醛缩合
• 年，卷（期）: 2004,（12）
• 所属期刊栏目: 材料综述
• 页码范围: 44-46
• 页数: 3页
• 字数: 1932字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1005-023X.2004.12.013

摘要

光敏聚酰亚胺(PSPI)具有高耐热性、良好的电绝缘性、优异的机械和感光性能等,被认为是极具应用前景的光电功能材料,已成为新型功能高分子材料的研究热点.从已得到商品化的PSPI材料出发,通过材料的分子结构设计,提出了合成新型PSPI的新思路,并根据有机合成的原理,简要论述了这几种新型PSPI的制备方法及提高PSPI性能的几条途径.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	何为	电子科技大学微电子与固体电子学院	200	994	12.0	23.0
2	李元勋	电子科技大学微电子与固体电子学院	73	307	9.0	13.0
3	唐先忠	电子科技大学微电子与固体电子学院	53	415	9.0	18.0
4	韩莉坤	电子科技大学光电子信息电子学院新型传感器教育部重点实验室	12	47	5.0	6.0