Cadence版图设计环境的建立及设计规则的验证

• 作者: 余有灵 王子君 王翠霞 范学峰 许维胜
• 来源期刊: 现代电子技术
• 关键词: 工艺库 显示文件 设计规则验证 版图
• 年，卷（期）: 2004,（15）
• 所属期刊栏目: 语音图像
• 页码范围: 18-20
• 页数: 3页
• 分类号: TN919.81
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1004-373X.2004.15.008

摘要

对版图设计需要的工艺库(technology file)文件、显示(display)文件的书写进行了详细分析,并对设计规则验证(DRC)中遇到的问题进行了解释.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	许维胜	同济大学半导体与信息技术研究所	153	1846	22.0	38.0
2	余有灵	同济大学半导体与信息技术研究所	72	381	9.0	17.0
3	王子君	同济大学半导体与信息技术研究所	11	192	5.0	11.0
4	范学峰	同济大学半导体与信息技术研究所	21	262	8.0	16.0
5	王翠霞	同济大学半导体与信息技术研究所	13	110	4.0	10.0