Ni/SiO2纳米复合涂层的结构与光学性质研究

• 作者: 吴玉程 张立德 李广海 程继贵 解挺
• 来源期刊: 功能材料
• 学科: 工学
• 关键词: Ni/SiO2 纳米复合涂层 结构 光吸收
• 年，卷（期）: 2004,（z1）
• 所属期刊栏目: 纳米功能材料及其应用
• 页码范围: 2749-2751
• 页数: 3页
• 分类号: TB383|TB43|O482.3
• 字数: 1990字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1001-9731.2004.z1.769

摘要

采用射频磁控溅射方法制备Ni/SiO2纳米复合涂层,获得了镍成分为7.25%(at)(LNi)、13.96%(at)(MNi)、19.20%(at)(HNi)3种复合涂层,研究了该复合涂层的组织结构与光学性质.结果表明LNi纳米复合涂层的晶粒尺寸为10～15nm,随着镍含量提高,涂层的晶粒尺寸增大,纳米Ni颗粒的形状发生变化;LNi复合涂层在300～350nm存在显著的光吸收,随着晶粒尺寸增大,光吸收边发生显著的红移.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	吴玉程	合肥工业大学材料科学与工程学院	356	3745	28.0	45.0
5	程继贵	合肥工业大学材料科学与工程学院	96	760	14.0	23.0
6	张立德	中国科学院固体物理研究所	101	1916	23.0	41.0
7	解挺	合肥工业大学材料科学与工程学院	91	1358	20.0	32.0
8	李广海	中国科学院固体物理研究所	31	478	10.0	21.0