反应磁控溅射法制备的氟化类金刚石薄膜的XPS结构研究

• 作者: 宁兆元 江美福
• 来源期刊: 物理学报
• 学科: 物理学
• 关键词: 反应磁控溅射 氟化类金刚石薄膜 红外透射光谱 XPS光谱
• 年，卷（期）: 2004,（9）
• 所属期刊栏目: 物理学交叉学科及有关科学技术领域
• 页码范围: 3220-3224
• 页数: 5页
• 分类号: O4
• 字数: 4560字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1000-3290.2004.09.073

摘要

采用射频反应磁控溅射法用高纯石墨作靶、三氟甲烷(CHF3)和氩气(Ar)作源气体制备了氟化类金刚石(F-DLC)薄膜,通过XPS光谱结合拉曼光谱、红外透射光谱和紫外-可见光光谱研究了源气体流量比等工艺条件对薄膜中键结构、sp2/sp3杂化比以及光学带隙等性能的影响.结果表明在低功率(60W)、高气压(2.0Pa)和适当的流量比(Ar/CHF3=2∶1)下利用射频反应磁控溅射法可制备出氟含量高且具有较宽光学带隙和超低介电常数的F-DLC薄膜.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	宁兆元	苏州大学物理科学与技术学院	70	528	12.0	18.0
2	江美福	苏州大学物理科学与技术学院	17	144	7.0	11.0